E3200
GaN衬底/外延片缺陷检测系统
适用于 GaN 衬底及多种衬底（蓝宝石、Si、SiC、GaN）GaN 外延片的缺陷检测。系统集成 DIC 明场、激光散射暗场及激光 PL 多通道检测，并结合 AI 自动缺陷识别与分类算法，最小可检测缺陷尺寸达 60 nm
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可以检测的缺陷类型：Particle, Pit, Bump, Hex, Crack, Crescent, PL Black, PL White 等
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适配多材质 GaN 衬底的外延缺陷检测，适用场景广泛
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支持 Particle、Crack 等多类 GaN 相关缺陷识别，满足 GaN 器件制造的品质管控
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多通道检测 + AI 算法结合，保障缺陷检测的效率与准确性
