化合物半导体图形晶圆缺陷检测

化合物半导体图形晶圆缺陷检测系统

H2000，用于化合物有图形工艺的晶圆缺陷检测，设备集成了线扫和面阵扫描双重光学系统，并且配置了激光暗场检测图形的光学滤波技术，可以对工艺过程的各种缺陷进行检测和分类，最小检测精度100nm（暗场滤波后）